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VSF-L系列悬浮真空熔炼炉

VSF-L系列悬浮真空熔炼炉

真空感应悬浮熔炼炉是将分瓣水冷铜坩埚置于强大的交变磁场中,利用感应涡流加热水冷铜坩埚中的金属使其融化,依靠电磁力使熔融金属与水冷铜坩埚不产生密切接触。这样就避免了坩埚对需要熔炼材料的污染,从而能够熔炼出高纯度的金属材料。通过精练后在水冷铜坩埚内的液态合金也可以通过旋转浇注入锭模中,可以得到组织致密的合金锭。真空悬浮熔炼炉适用于钛合金、稀土材料、高熵合金、黄金等金属的熔炼,高纯度靶材的生产和一些精密铸造。主要应用于生产高纯金属材料、半导体单晶材料、高熔点合金和3D打印等行业。


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真空感应悬浮熔炼炉是将分瓣水冷铜坩埚置于强大的交变磁场中,利用感应涡流加热水冷铜坩埚中的金属使其融化,依靠电磁力使熔融金属与水冷铜坩埚不产生密切接触。这样就避免了坩埚对需要熔炼材料的污染,从而能够熔炼出高纯度的金属材料。通过精练后在水冷铜坩埚内的液态合金也可以通过旋转浇注入锭模中,可以得到组织致密的合金锭。真空悬浮熔炼炉适用于钛合金、稀土材料、高熵合金、黄金等金属的熔炼,高纯度靶材的生产和一些精密铸造。主要应用于生产高纯金属材料、半导体单晶材料、高熔点合金和3D打印等行业。


产品名称:VSF系列悬浮真空熔炼炉
产品型号:VSF-300L 悬浮真空熔炼炉
                VSF-500L 悬浮真空熔炼炉
                VSF-1000L 悬浮真空熔炼炉
                VSF-2000L 悬浮真空熔炼炉


悬浮熔炼炉



  VSF-L真空悬浮熔炼炉


产品描述:

真空感应悬浮熔炼炉是将分瓣水冷铜坩埚置于强大的交变磁场中,利用感应涡流加热水冷铜坩埚中的金属使其融化,依靠电磁力使熔融金属与水冷铜坩埚不产生密切接触。这样就避免了坩埚对需要熔炼材料的污染,从而能够熔炼出高纯度的金属材料。通过精练后在水冷铜坩埚内的液态合金也可以通过旋转浇注入锭模中,可以得到组织致密的合金锭。真空悬浮熔炼炉适用于钛合金、稀土材料、高熵合金、黄金等金属的熔炼,高纯度靶材的生产和一些精密铸造。主要应用于生产高纯金属材料、半导体单晶材料、高熔点合金和3D打印等行业。


炉体结构:

VSF-L真空熔炼炉是一款卧式、侧部开门结构、能够在腔体内实现真空浇铸的高真空悬浮熔炼设备。该炉安装有二次加料器,可以实现二次加料,有多处观察孔,可以清晰的观察水冷铜坩埚内物料熔化的情况,并可选配红外测温仪测量熔化金属的温度,该炉具有过温、断水保护、报警、输出电流显示等功能。能够在炉外旋转电极从而让炉内坩埚做任意角度翻转、而实现真空下浇铸。


技术参数:

1.最高加热温度:2200

2.采用电源:IGBT悬浮专用电源

3.感应线圈:悬浮炉专用线圈

4.输入电压:三相380V 50 HZ

5.融化速率:10~15min

6.坩埚:悬浮专用水冷铜坩埚

7.腔体真空度:< 5X10-3Pa

8.冷却水要求:电源≥0.2MPa 水冷铜坩埚 ≥0.35MPa


技术指标:

 

型号

VSF-300L

VSF-500L

VSF-1000L

VSF-2000L

最大熔炼重量(按钛液计算)

300G

500G

1000G

2000G

电源技术参数

最大输入功率

60KW

90KW

120KW

180KW

最大输出功率

54KW

81KW

108KW

162KW

振荡频率

15-30KHZ (频率自动跟踪)

腔体尺寸

Dia700X800mm

Dia700X800mm

Dia750X800mm

Dia750X800mm

坩埚尺寸

Dia40X50mm

Dia50X60mm

Dia60X110mm

Dia70X120mm


 

 







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PRODUCT ENTER

  

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